§ 21b - Patentanwaltsausbildungs- und -prüfungsverordnung (PatAnwAPO)

neugefasst durch B. v. 08.12.1977 BGBl. I S. 2491; aufgehoben durch § 80 V. v. 22.09.2017 BGBl. I S. 3437
Geltung ab 01.01.1978; FNA: 424-5-2 Gemeinsame Rechtsvorschriften

§ 21b Urlaub

(1) Der Bewerber hat während der Ausbildung beim Deutschen Patent- und Markenamt und Patentgericht Anspruch auf 16 Arbeitstage Erholungsurlaub. Bei einer Verlängerung der Ausbildung oder bei einer weiteren Ausbildung nach § 39 Abs. 2 und 4 Satz 5 hat der Bewerber Anspruch auf zwei Arbeitstage Erholungsurlaub für jeden vollen Monat der weiteren Ausbildung. In den Zeitraum der Ausbildung beim Deutschen Patent- und Markenamt sollen nicht mehr als fünf Arbeitstage des Erholungsurlaubs gelegt werden.

(2) Die §§ 9 und 10 der Verordnung über den Erholungsurlaub der Bundesbeamten und Richter im Bundesdienst in der jeweils geltenden Fassung sind entsprechend anzuwenden.

(3) § 9 bleibt unberührt.